1. 総覧
上段のマトリクスで工程対応の広さを確認
どの会社がどの工程に製品ファミリーを持つかを先に確認します。
半導体製造装置は工程別に整理するだけでは、どの会社が総合装置ベンダーで、どの会社が先端パッケージ専業ベンダーなのかが見えにくくなります。
このページでは、主要ベンダーの製品ファミリーと装置ファミリーを、まず工程別の総覧マトリクスで並べ、そのあと会社別セクションで代表ファミリー、工程内シェア、代表モデル、公式リンクを順に確認できる形へ整理しました。
temporary bonding / debonding / layer release / thinning のように先端パッケージ専業ベンダーを先に確認したいときは、下の論点別導線から関連ページへ移動できます。
METI 2021年図の元データと、そのまま触れるインタラクティブ版は 工程別の装置シェアと競争構造 にまとめています。
| まず切り分けたい論点 | 先に確認する会社 / 装置ファミリー | 次に進むページ |
|---|---|---|
| temporary bonding / debonding / layer release / thinning | EVG, SUSS, TEL, DISCO | Temporary Bond / Debond と wafer thinning の量産論点 |
| die-to-wafer / wafer-to-wafer hybrid bonding | AMAT, SUSS, TEL, EVG | AMAT・Lam・TELの3D実装装置を比較する |
| gap fill / bevel / wet clean / electrofill / edge control | Lam, SCREEN, TEL, AMAT | AMAT・Lam・TELの3D実装装置を比較する |
| overlay / defect inspection / e-beam metrology / film thickness measurement | KLA, ASML, AMAT, SCREEN | KLA・ASML・AMAT・SCREENの検査・計測・オーバーレイ装置比較 |
| 会社全体の製品群の広さと工程内シェア | TEL, AMAT, Lam, KLA, ASML, SCREEN | 工程別の装置シェアと競争構造 |
このページの 装置ファミリー数 は chamber 数ではなく、公式製品ページが独立ページとして立っている製品ファミリー を数えています。
今回の改稿では、AMAT の CVD / Epi / CMP / RTP / metrology / hybrid bonding、Lam の wet clean / bevel / ECD / ALD / deep silicon etch を追加し、総合装置ベンダーの製品群の抜けを減らしました。
| 会社 | このページで確認できる主な製品ファミリー | 装置ファミリー数 | packaging 隣接で先に確認する製品ファミリー |
|---|---|---|---|
| AMAT | PVD, CVD, ALD, Epi, Etch, Pattern shaping, Ion implant, CMP, RTP, eBeam metrology, hybrid bonding | 13 | Kinex, Producer InVia CVD, PROVision 10, Reflexion LK Prime CMP, Vantage Vulcan RTP |
| Lam | Conductor etch, dielectric etch, PECVD, ALD, wet clean, bevel / edge control, ECD, cryogenic etch, deep silicon etch | 10 | SP Series, Coronus, SABRE 3D, Striker, Syndion, VECTOR |
| TEL | Lithography / track, deposition, etch, cleaning, test / prober, bond / debond / thinning | 8 | Synapse, Ulucus, Prexa |
会社別総覧
この総覧では、会社別の製品ファミリーと工程バケットごとの存在感を同じ画面に並べています。 最初に総覧マトリクスで工程対応の広さを確認し、そのあと各社セクションで装置ファミリーの役割と公式ページを確認できます。
1. 総覧
どの会社がどの工程に製品ファミリーを持つかを先に確認します。
2. 絞り込み
露光、エッチ、計測、接合のように論点に近い工程だけへ絞れます。
3. 公式ページ
概要、工程内シェア、代表モデル、公式リンクを1カードにまとめています。
総覧マトリクス
行は会社、列は工程バケットです。色は公開情報から確認できる強さの目安で、濃いセルほど No.1、高シェア、 主力ラインが集中している場所です。
| 会社 | Litho | Dep/Epi | Etch | Clean | Thermal | Inspect | Pkg/Edge |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| TEL 8 製品群 | 1 CLEAN TRACK LITHIUS Series | 3 TELINDY Series +2 | 1 Episode UL / Tactras / Certas LEAGA | 1 CELLESTA / EXPEDIUS / NS / ANTARES | — | — | 2 Prexa / Cellcia / Precio +1 |
| SCREEN 6 製品群 | 1 DT / RF / SK / SC track family | — | — | 1 SU / SP / SS / SB / Wet Station family | 1 LA-3100 | 2 RE / VM film-thickness systems +1 | 1 DW / LeVina |
| AMAT 13 製品群 | 1 Centura Sculpta | 5 Endura CuBS / Amber PVD family +4 | 2 Producer Etch +1 | — | 3 Reflexion LK Prime CMP +2 | 1 PROVision 10 eBeam Metrology | 1 Kinex |
| Lam 10 製品群 | — | 3 VECTOR Product Family +2 | 3 Kiyo Product Family +2 | — | — | — | 4 SP Series Product Family +3 |
| KLA 5 製品群 | 2 eSL10 +1 | — | — | — | — | 3 Archer family +2 | — |
| ASML 4 製品群 | 2 TWINSCAN NXT / XT DUV family +1 | — | — | — | — | 2 YieldStar family +1 | — |
| EVG 3 製品群 | — | — | — | — | — | — | 3 EVG temporary bonding / debonding systems +2 |
| SUSS 3 製品群 | — | — | — | — | — | — | 3 XBS300 +2 |
| DISCO 3 製品群 | — | — | — | — | — | — | 3 DFG grinder family +2 |
Tokyo Electron は coating/develop、etch、batch deposition、wafer test、bond/debond の棚が広く、量産ラインを工程順に並べて確認しやすい broad-line vendor です。
SCREEN は cleaning を主軸に、track、anneal、film thickness measurement、advanced packaging まで持つ vendor です。洗浄と周辺工程から棚を確認したいときの基点になります。
Applied Materials は PVD、CVD、etch、implant、pattern shaping を広く持つ broad-line vendor です。3D実装では Kinex と metrology linkage の位置づけが確認ポイントになります。
Lam Research は etch と deposition を軸に、advanced packaging 周辺の gap fill、bevel、wet clean、deep silicon etch を持つ vendor です。failure mode 起点で棚を確認したいときに有効です。
KLA は process control を主軸に、overlay、patterned defect inspection、unpatterned inspection、e-beam review の棚を広く持つ vendor です。
ASML は lithography を主軸に、YieldStar と HMI 系を含む metrology / inspection も持つ vendor です。scanner と process control の接点を確認できます。
EVG は wafer bonding と thin-wafer handling の specialist vendor です。temporary bonding / debonding、layer release、fusion / hybrid bonding を量産文脈で確認できます。
SUSS は temporary bonding / debonding と hybrid bonding の specialist vendor です。glass / silicon carrier、room-temperature debonding、W2W / D2W bonding を切り分けて確認できます。
DISCO は thinning、grinding、DBG、TAIKO の specialist vendor です。temporary bond 後の薄化と singulation をどうつなぐかを確認するときに使えます。
工程フィルタ
全表示から始めて、比較したい工程だけに絞ると、会社ごとの工程対応差を同じ表で比較できます。
TEL の装置ライン
Tokyo Electron は coating/develop、etch、batch deposition、wafer test、bond/debond の棚が広く、量産ラインを工程順に並べて確認しやすい broad-line vendor です。
Deposition
300 mm batch furnace と LPCVD、thermal ALD の主力群です。TELINDY PLUS、IRad、EVAROS、TELFORMULA をまとめて確認できます。
Deposition
semi-batch ALD の主力機です。高アスペクト比構造向けの膜形成を TEL がどう説明しているかを確認する入口として使えます。
Deposition
単枚 deposition の主力群です。GAA や BEOL に近い新しいフローで使う TEL の deposition family をまとめています。
Lithography
track の主力群です。High-NA 向けの Pro DICE から packaging 向けの AP 系まで、TEL の track 棚をひとまとめで確認できます。
Etch
dry etch と gas chemical etch の主力群です。logic、memory、power device のどこで TEL の etch が強いかを見分ける基点になります。
Cleaning
front-end と back-end の cleaning 群です。single-wafer clean、batch clean、scrub、dry cleaning を横断して確認できます。
Test
wafer prober と singulated-device prober の製品群です。KGD と chiplet 向け評価で TEL がどこまで製品ファミリーを公開しているかを確認できます。
Bonding / Debonding
temporary bonding、permanent bonding、rework、wafer removal、thinning を量産フロー順に確認できる TEL の advanced packaging 群です。
SCREEN の装置ライン
SCREEN は cleaning を主軸に、track、anneal、film thickness measurement、advanced packaging まで持つ vendor です。洗浄と周辺工程から棚を確認したいときの基点になります。
Cleaning
SCREEN の cleaning 棚を代表する family 群です。single-wafer cleaner、spin scrubber、backside cleaner、wet station を横断して確認できます。
Lithography
track 群です。DT-3000 の dual-track 構成や packaging に近い塗布・現像ラインを確認するときの入口になります。
Annealing
flash lamp annealer です。短時間熱処理の代表製品ページとして SCREEN がどこまで説明しているかを確認できます。
Measurement
ellipsometric と spectroscopic measurement の棚です。膜厚や関連指標をどこまで inline に寄せるかを確認するときに使えます。
Inspection
pattern inspection 群です。SCREEN の measurement と inspection がどこで分かれるかを見分けるときに使えます。
Advanced Packaging
advanced packaging 向けの direct imaging と関連ラインです。配線形成や panel 寄りの工程を確認するときの入口になります。
AMAT の装置ライン
Applied Materials は PVD、CVD、etch、implant、pattern shaping を広く持つ broad-line vendor です。3D実装では Kinex と metrology linkage の位置づけが確認ポイントになります。
Etch
Twin Chamber 設計の workhorse etch です。logic と memory をまたぐ base line として確認できます。
PVD
barrier / seed と related PVD の棚です。BEOL 配線と先端 PVD を AMAT がどう切り分けているかを確認できます。
ALD / Deposition
ALD の主力機です。logic、DRAM、3D NAND での膜形成をどう説明しているかを確認できます。
CVD / Deposition
PECVD と sub-atmospheric CVD の主力平台です。blanket、gapfill、conformal film を 150 mm から 300 mm まで扱い、logic、DRAM、NAND、SiC を含む広い材料系へ展開されています。
CVD / Deposition
via-first、via-middle、interposer TSV 向けの liner CVD です。高アスペクト比 TSV で conformality、breakdown voltage、leakage current を両立する packaging 寄りの CVD 棚として使えます。
Epitaxy / Deposition
GAA と vertical FinFET を主眼にした selective epitaxy platform です。高アスペクト比構造での epitaxial growth と温度安定性を前面に出しており、AMAT の epi 棚を補います。
CMP
四つの polishing pad と八つの cleaning chamber を持つ two-step CMP 系です。3D NAND の厚膜や大きな topography に対して安定した planarization を行う broad-line CMP 棚として扱えます。
Thermal Processing / RTP
32/28nm 世代以降の spike anneal と低温 anneal を支える RTP 系です。sub-second anneal、metal anneal、silicide 向け低温処理までを一つの thermal shelf で説明できます。
Ion Implant
ion implant の主力機です。cryo-implant を含むドーピング工程をどこまで公開しているかを確認できます。
Patterning
pattern shaping を独立カテゴリとして示す装置です。EUV multi-patterning の負荷低減と設計自由度の文脈で確認できます。
Metrology / Inspection
sub-nanometer resolution と through-layer imaging を前面に出した eBeam metrology です。GAA、next-generation DRAM、HBM、backside power delivery の multilayer measurement を一つの line として扱えます。
Hybrid Bonding / Packaging
die-to-wafer hybrid bonding を HVM 向けに統合した system です。wet clean、plasma activation、in-situ metrology、queue-time control を同じ装置文脈で束ねるため、AMAT の packaging 棚の核になります。
Etch / Advanced Logic
angstrom era の conductor etch 向け装置です。GAA や nanosheet に近い logic profile control を確認する入口になります。
Lam の装置ライン
Lam Research は etch と deposition を軸に、advanced packaging 周辺の gap fill、bevel、wet clean、deep silicon etch を持つ vendor です。failure mode 起点で棚を確認したいときに有効です。
Conductor Etch
conductor etch の主力群です。FinFET、multi-patterning、3D NAND までを含む Lam の base line として使えます。
Dielectric Etch
dielectric etch の主力群です。logic/interconnect と memory のどちらに軸があるかを family 単位で確認できます。
PECVD / Deposition
PECVD の主力群です。hardmask、RDL、passivation、3D NAND multilayer stack を含む deposition 棚を確認できます。
ALD / Deposition
advanced packaging と HBM を含む single-wafer ALD family です。ultra-thin dielectric film、conformal liner、patterning spacer、gapfill dielectric を同じ deposition 棚で説明できます。
Wet Clean / Packaging
advanced WLP 向けの wet clean / wet etch family です。bonding pad、bumps、HAR TSV の residue removal に加えて、substrate thinning と stress relief まで一つの wet shelf で拾えます。
Bevel / Edge Control / Packaging
bevel etch と bevel deposition の family です。wafer edge の residue removal、carrier 側の mechanical support、chipping 防止を通じて packaging の edge-yield を直接下げにくくします。
Electrochemical Deposition / Packaging
advanced WLP と TSV 向けの ECD family です。RDL、UBM、copper pillar、microbump、TSV fill を高い within-wafer uniformity と co-planarity で処理する packaging electrofill 棚になります。
ALD
Mo ALD を主語にした metallization 向け装置です。interconnect 形成で Lam がどこに入るかを確認できます。
Cryogenic Etch
3D NAND の高アスペクト比 hole/trench 向け cryogenic etch です。高層化メモリ文脈で Lam の位置づけを確認できます。
Deep Silicon Etch / Packaging
TSV と deep trench を含む deep silicon etch 群です。advanced packaging と front-end の交点にある装置棚として確認できます。
KLA の装置ライン
KLA は process control を主軸に、overlay、patterned defect inspection、unpatterned inspection、e-beam review の棚を広く持つ vendor です。
Overlay Metrology
overlay metrology の主力群です。pattern alignment を inspection と分けて確認するときの入口になります。
Patterned Defect Inspection
e-beam defect inspection の代表機です。logic、DRAM、3D NAND の critical defect 検出で KLA がどこに入るかを確認できます。
Unpatterned Wafer Inspection
bare wafer と blanket film inspection の棚です。scanner qualification に近い確認でも使えます。
Compound-Semiconductor Inspection
SiC や GaN を含む compound semiconductor inspection の棚です。surface と PL inspection を切り分けて確認できます。
Defect Review
e-beam review の棚です。inspection で検出した異常を再確認するときの downstream tool として位置づけられます。
ASML の装置ライン
ASML は lithography を主軸に、YieldStar と HMI 系を含む metrology / inspection も持つ vendor です。scanner と process control の接点を確認できます。
DUV Lithography
DUV scanner の主力群です。immersion と dry を含み、量産で残る DUV 棚を確認できます。
EUV Lithography
0.33 NA と High-NA を含む EUV scanner 群です。leading-edge node 向けの lithography 棚を確認できます。
Optical Metrology
optical metrology の主力群です。overlay と pattern quality を scanner 隣接で確認できます。
E-beam Inspection / Metrology
HMI を含む e-beam inspection / metrology 群です。YieldStar と並ぶ process control 側の棚として確認できます。
EVG の装置ライン
EVG は wafer bonding と thin-wafer handling の specialist vendor です。temporary bonding / debonding、layer release、fusion / hybrid bonding を量産文脈で確認できます。
Bonding / Debonding
temporary bonding、automated debonding、cleaning をまとめた category です。thin-wafer support と post-debond handling を確認できます。
Layer Release / Bonding
IR laser release を主語にした ultra-thin layer transfer 装置です。layer release の throughput と downstream compatibility を確認できます。
Hybrid / Fusion Bonding
aligned wafer bonding、fusion bonding、3D integration を含む permanent bonding 群です。量産用プラットフォームとしての位置づけを確認できます。
SUSS の装置ライン
SUSS は temporary bonding / debonding と hybrid bonding の specialist vendor です。glass / silicon carrier、room-temperature debonding、W2W / D2W bonding を切り分けて確認できます。
Bonding / Debonding
silicon / glass carrier と複数 adhesive を使える temporary bonding platform です。built-in metrology と alignment verification を確認できます。
Debonding / Cleaning
room-temperature debonding と controlled debond wave front を主語にした群です。temporary bond 後の debond と cleaning の切り分けに使えます。
Hybrid Bonding
W2W、collective D2W、sequential D2W を 1 cluster で扱う hybrid bonding platform です。R&D から HVM への接続条件を確認できます。
DISCO の装置ライン
DISCO は thinning、grinding、DBG、TAIKO の specialist vendor です。temporary bond 後の薄化と singulation をどうつなぐかを確認するときに使えます。
Packaging / Thinning / Grinding
300 mm wafer thinning、low-damage grinding、DBG integration を含む grinder 群です。ultra-thin wafer の薄化条件を確認できます。
Packaging / Ultra-thin / TAIKO
wafer outer rim を残して inner circumference を研削するプロセスです。warpage と handling difficulty の低減条件を確認できます。
Packaging / DBG / Singulation
dicing と grinding を同じ flow に置く群です。backside chipping と thin-wafer transport risk をどう減らすかを確認できます。
総覧マトリクス で、会社ごとの製品群の広さと主力工程を確認します。論点別導線 で、総合装置ベンダーと専業ベンダーのどちらから確認するかを決めます。工程フィルタ で、露光、エッチ、計測、bonding、thinning など比較したい製品ファミリーだけへ絞ります。工程内シェア、装置ファミリーの役割、代表モデル、公式製品ページ を確認します。TEL主力機 のように会社別深掘りへ 1 ページ切り出すtemporary bonding 比較表 のように先端パッケージ専業ベンダーを横並びで切り出すoverlay / metrology / inspection を独立クラスターとして切り出すimplant, anneal, advanced packaging lithography のように今は薄い製品カテゴリを個別記事にするbonding/debonding は Temporary Bond / Debond と wafer thinning の量産論点 として独立ページ化しました。
AMAT・Lam・TEL と先端パッケージ専業ベンダーの役割差は AMAT・Lam・TELの3D実装装置を比較する から切り分けて確認できます。